专利名称：一种真空镀膜机专利类型：发明专利发明人：王朝阳,宫睿
申请号：CN201310429910.7申请日：20130922公开号：CN103469163A公开日：20131225
摘要：本发明公开了一种真空镀膜机，包括真空室（1），所述真空室（1）的内腔下部设置有电子枪（2）和辅助离子源（3），在电子枪（2）和辅助离子源（3）的上方设有正对两者的基片架（4），基片架（4）的外侧设有基片加热器（5）；基片架（4）的顶部和真空室（1）内腔顶部相连接的位置处设置有光控系统（6）和晶控系统（7），电子枪（2）、辅助离子源（3）、光控系统（6）和晶控系统（7）通过信号线与监视设备相连。本发明通过基片加热器在镀膜前对基片进行稳定均匀加热，以改善膜层致密性和均匀性；用离子束轰击正在生长的膜层，形成致密均匀的膜层结构，提高镀膜膜层的稳定性和质量，达到改善镀膜膜层光学和机械性能的目的。
申请人：无锡启晖光电科技有限公司
地址：214174 江苏省无锡市惠山经济开发区慧谷创业园B区行知路39-37-101
国籍：CN
代理机构：南京天华专利代理有限责任公司
代理人：徐冬涛
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