专利名称：静电吸附台专利类型：实用新型专利发明人：朱海波,魏永辉申请号：CN200820079141.7申请日：20080221公开号：CN201156132Y公开日：20081126
摘要：本实用新型公开了一种静电吸附台，包括：基台座、位于所述基台座上的基材层和位于所述基材层上用于吸附玻璃基板的电极层，在所述电极层上设置有用于保护电极层的保护层。其中，保护层可以为硅橡胶层、聚酰亚胺层，还可以在保护层和电极层之间设置一陶瓷层。本实用新型提供的静电吸附台，通过在ESC台上采用单保护层，或者增加一层陶瓷层，或者增加保护层的厚度，来增强保护层对ESC台上的电极层的保护，从而使得ESC台不易损坏，提高生产效率，并降低生产成本。
申请人：北京京东方光电科技有限公司
地址：100176 北京市经济技术开发区西环中路8号
国籍：CN
代理机构：北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人：刘芳
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