专利名称：抗蚀剂下层膜形成用组合物专利类型：发明专利
发明人：西田登喜雄,坂本力丸申请号：CN201780054941.5申请日：20170915公开号：CN109690405A公开日：20190426
摘要：本发明的课题是提供新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：具有下述式(1)～式(3)所示的结构单元的共聚物、交联剂、有机酸催化剂、以及溶剂。(式中，R各自独立地表示氢原子或甲基，R表示碳原子数1～3的亚烷基，A表示保护基，R表示具有四元环～七元环的内酯骨架、金刚烷骨架、三环癸烷骨架或降冰片烷骨架的有机基，R表示至少1个氢原子被氟基取代、并且还可以具有至少1个羟基作为取代基的碳原子数1～12的直链状、支链状或环状的有机基。)
申请人：日产化学株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京市中咨律师事务所
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