(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112174646 A(43)申请公布日 2021.01.05
(21)申请号 202011043763.6(22)申请日 2020.09.28
(71)申请人 东北大学
地址 110169 辽宁省沈阳市浑南区创新路
195号(72)发明人 孙旭东 于华倩 赵环宇 李晓东
李继光 (74)专利代理机构 北京易捷胜知识产权代理事
务所(普通合伙) 11613
代理人 韩国胜(51)Int.Cl.
C04B 35/053(2006.01)C04B 35/44(2006.01)C04B 35/622(2006.01)C04B 35/632(2006.01)
权利要求书1页 说明书6页 附图2页
C04B 35/634(2006.01)C04B 35/64(2006.01)C04B 35/645(2006.01)C09K 11/80(2006.01)
(54)发明名称
一种激光照明用高导热荧光陶瓷及其制备方法
(57)摘要
本发明涉及一种激光照明用高导热荧光陶瓷及其制备方法，该荧光陶瓷包括钇铝石榴石相
其中，钇铝石榴石相的(YAG:Ce)和MgO高导热相，
质量分数为20～80％；由MgO纳米粉体和YAG:Ce荧光粉球磨混合后采用热压烧结加热等静压烧结得到，本发明制得的荧光陶瓷结晶度好，具有高的热导率和良好的发光强度，可承受大功率的激光辐照，而且在较低温度下制备，极大地降低两相之间的反应速度，制备工艺简单，耗能低。
CN 112174646 ACN 112174646 A
权 利 要 求 书
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1.一种激光照明用高导热荧光陶瓷，其特征在于，其包括钇铝石榴石相即YAG:Ce和MgO高导热相，其中，钇铝石榴石相的质量分数为20～80％。
2.一种激光照明用高导热荧光陶瓷的制备方法，其特征在于，其包括如下步骤：S1：准确称量原料粉体：MgO粉体和YAG:Ce荧光粉体；S2：向上述原料粉体中添加分散剂，以无水乙醇为分散介质，采用球磨法混合原料粉体；将球磨后的浆料置于烘箱中干燥；再经过过筛和煅烧，获得混合均匀的原料粉体混合物；
S3：将步骤S2获得的原料粉体混合物填入不锈钢模具中单轴压制，获得素坯；S4：将步骤S3得到的素坯置于石墨模具中，采用热压烧结方法，得到YAG:Ce-MgO荧光陶瓷；
S5：将步骤S4得到的YAG:Ce-MgO荧光陶瓷采用热等静压烧结使其进一步致密化，获得致密的YAG:Ce-MgO荧光陶瓷；
S6：对S5得到的荧光陶瓷进行退火处理。3.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，在步骤S1中，所述YAG:Ce荧光粉体的颗粒尺寸为10～15μm，MgO的颗粒尺寸为50～100nm。
4.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，在步骤S1中，所述YAG:Ce相的质量分数为原料粉体总质量的20～80％。
5.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，在步骤S2中，所述分散剂为柠檬酸铵或聚丙烯酸铵，添加量为原料粉体总质量的0.5～2％，煅烧温度为500～800℃。
6.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，在步骤S3中，所述单轴压制的压力为10～50MPa。
7.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，在步骤S4中，所述热压烧结的条件是以10～50℃/min的升温速率升至1100～1450℃，保温0.5～2h，其中热压压力为20～50MPa。
8.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，在步骤S5中，所述热等静压烧结的条件是以10～40℃/min的升温速率升至1150～1500℃，保温0.5～2h，其中，热等静压压力为100～200MPa。
9.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，在步骤S6中，所述退火处理的条件是以5～10℃/min的升温速率升至1000～1300℃，保温2～4h，退火气氛为空气气氛。
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说 明 书
一种激光照明用高导热荧光陶瓷及其制备方法
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技术领域
[0001]本发明涉及一种激光照明用高导热荧光陶瓷及其制备方法，属于激光照明材料技术领域。
背景技术
[0002]近年来，国内外科研人员投入大量精力改善LED的效率骤减问题，但随着LED的发展逐渐进入瓶颈期，功率与效率之间的矛盾没有得到根本解决。此时，基于激光二极管(Laser Diodes，LD)的激光光源进入大众视野。相比于LED光源，LD不存在“效率骤减”现象，而且发光效率更高，照射距离更远，体积更小，可控性更好，成为未来固态照明的发展方向。随着激光照明技术的不断发展，针对LD光源的特性开发新一代的荧光材料迫在眉睫。由于LD的功率密度远高于LED，所以要求荧光材料具有更高的热导率、优异的抗辐照能力和良好的发光性能。
[0003]传统用于LED的荧光陶瓷，一般分为两种，一种是纯相荧光陶瓷，如YAG:Ce陶瓷；另一种是复相荧光陶瓷，如Al2O3-YAG:Ce陶瓷。在室温下，YAG陶瓷的热导率约为9-14W/m/K，Al2O3陶瓷的热导率约为32-35W/m/K。导热能力的不足会严重影响荧光陶瓷在大功率激光照明中的应用。因此，需要进一步提高激光照明用荧光陶瓷的热导率，开发出一种既具有优异的发光性能，又具有高热导率的荧光陶瓷。发明内容[0004](一)要解决的技术问题
[0005]为了解决现有技术的上述问题，本发明提供一种激光照明用高导热YAG:Ce-MgO荧光陶瓷及其制备方法。[0006](二)技术方案
[0007]为了达到上述目的，本发明采用的主要技术方案包括：[0008]一种激光照明用高导热荧光陶瓷，其包括钇铝石榴石相即YAG:Ce和MgO高导热相，其中，钇铝石榴石相的质量分数为20～80％。
[0009]一种激光照明用高导热荧光陶瓷的制备方法，其包括如下步骤：[0010]S1：准确称量原料粉体：MgO粉体和YAG:Ce荧光粉体；[0011]S2：向上述原料粉体中添加分散剂，以无水乙醇为分散介质，采用球磨法混合原料粉体；将球磨后的浆料置于烘箱中干燥；再经过过筛和煅烧，获得混合均匀的原料粉体混合物；
[0012]S3：将S2获得的原料粉体混合物填入不锈钢模具中单轴压制，获得素坯；[0013]S4：将S3得到的素坯置于石墨模具中，采用热压烧结方法，得到YAG:Ce-MgO荧光陶瓷；
[0014]S5：将S4得到的YAG:Ce-MgO荧光陶瓷采用热等静压烧结使其进一步致密化，获得致密的YAG:Ce-MgO荧光陶瓷；
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说 明 书
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S6：对S5得到的荧光陶瓷进行退火处理。
[0016]如上所述的制备方法，优选地，在步骤S1中，所述YAG:Ce荧光粉体的颗粒尺寸为10～15μm，MgO的颗粒尺寸为50～100nm。
[0017]经大量实验研究发现YAG:Ce荧光粉体选择大尺寸颗粒可以提高材料发光强度，MgO粉体选择纳米颗粒有助于提高陶瓷的烧结活性，YAG:Ce荧光粉体的颗粒尺寸优选10～15μm，MgO的颗粒尺寸优选50～100nm。[0018]如上所述的制备方法，优选地，在步骤S1中，所述YAG:Ce相的质量分数为原料粉体总质量的20～80％。
[0019]如上所述的制备方法，优选地，在步骤S2中，所述分散剂为柠檬酸铵或聚丙烯酸铵，添加量为原料粉体总质量的0.5～2％，煅烧温度为500～800℃。
[0020]经大量实验研究发现采用质量分数为0.5～2％的柠檬酸铵或聚丙烯酸铵作为分散剂可以有效的避免纳米粉体的团聚，使YAG:Ce均匀的分散于MgO之间。[0021]如上所述的制备方法，优选地，在步骤S3中，所述单轴压制的压力为10～50MPa。[0022]如上所述的制备方法，优选地，在步骤S4中，所述热压烧结的条件是以10～50℃/min的升温速率升至1100～1450℃，保温0.5～2h，热压压力为20～50MPa。[0023]研究发现若温度低于1100℃，则陶瓷很难烧结致密化，若温度高于1450℃，YAG:Ce和MgO反应加剧，会严重降低陶瓷的发光性能。[0024]如上所述的制备方法，优选地，在步骤S5中，所述热等静压烧结的条件是以10～40℃/min的升温速率升至1150～1500℃，保温0.5～2h，其中，热等静压压力为100～200MPa。[0025]本发明采用热等静压工艺，可以有效排除陶瓷内部的闭气孔，从而达到陶瓷的致密化。若温度低于此范围，则进一步致密化的驱动力不足。若高于1450℃，则晶粒会发生异常长大，形成不易排出的晶内气孔，影响进一步致密化。[0026]如上所述的制备方法，优选地，在步骤S6中，所述退火处理的条件是以按5～10℃/min的升温速率升至1000～1300℃，保温2～4h，退火气氛为空气气氛。[0027]在1000～1300℃，保温2～4h，这个退火条件下，可以有效的去除在烧结过程中渗入的碳元素。[0028](三)有益效果
[0029]本发明的有益效果是：
[0030]本发明提供的激光照明用高导热YAG:Ce-MgO荧光陶瓷，是在YAG:Ce结构中引入MgO，由于MgO的热导率(36-48W/m/K)显著高于YAG和Al2O3，所以本发明制备的复相荧光陶瓷的热导率优于现有的技术方案。同时，由于MgO自身具有良好的光学性能，常用于制备透明陶瓷，所以在本发明中，复相荧光陶瓷的发光性能不会因为MgO的加入而降低。因此，YAG:Ce-MgO荧光陶瓷结晶度好，具有高的热导率和良好的发光强度，可承受大功率的激光辐照。[0031]本发明提供的激光照明用高导热复相荧光陶瓷的制备方法，是由MgO纳米粉体和YAG:Ce荧光粉球磨混合后，采用热压烧结加热等静压烧结得到，使得复相荧光陶瓷可以在较低温度下制备，有效地降低了两相之间的反应速度，基本保持了YAG:Ce荧光粉和包裹在其周围的MgO高导热相的结构，从而保证了烧结后的荧光陶瓷拥有优异的发光性能和良好的导热能力，而且制备工艺简单，耗能低。
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附图说明
[0032]图1为实施例1得到的YAG:Ce-MgO荧光陶瓷的X射线衍射图谱；[0033]图2为实施例1得到的YAG:Ce-MgO荧光陶瓷的激发发射光谱；[0034]图3为实施例1得到的YAG:Ce-MgO荧光陶瓷的扫描电镜照片；[0035]图4为测得的热导率结果。
具体实施方式
[0036]为了更好的解释本发明，以便于理解，下面结合附图，通过具体实施方式，对本发明作详细描述。其中，实施例中所用的YAG:Ce可购自深圳格亮广电有限公司，MgO可购自上海阿拉丁生化科技股份有限公司。[0037]实施例1
[0038]一种激光照明用高导热YAG:Ce-MgO荧光陶瓷的制备方法，其包括如下步骤：S1：按照YAG:Ce荧光粉体占原料粉体(MgO粉体和YAG:Ce荧光粉体)总质量的40％，准确称量MgO粉体和YAG:Ce荧光粉体。其中YAG:Ce荧光粉体的颗粒尺寸为10-15μm，MgO的颗粒尺寸为50-100nm。
[0039]S2：添加粉体总质量的1％的柠檬酸铵作为分散剂，以无水乙醇为分散介质，采用球磨方法将粉体混和均匀，经过100℃干燥和200目筛网过筛得到混合均匀的粉体。再将粉体在空气气氛下煅烧，煅烧温度为600℃，保温时间为1h。[0040]S3：将S2获得的原料粉体混合物填入不锈钢模具中单轴压制，压力为30MPa，获得素坯。
[0041]S4：将S3得到的素坯置于石墨模具中，采用热压烧结方法，按40℃/min的升温速率升至1200℃，保温1h，热压压力为40MPa，从而得到YAG:Ce-MgO荧光陶瓷。[0042]S5：将S4得到的YAG:Ce-MgO荧光陶瓷采用热等静压烧结，按30℃/min的升温速率升至1250℃，保温1h，热等静压压力为100MPa，使其进一步致密化。[0043]S6：将烧结后的复相荧光陶瓷进行退火处理，按照7℃/min的升温速率升至1100℃，保温3h。再经过打磨抛光，得到YAG:Ce-MgO复相荧光陶瓷。[0044]对上述方法制备的荧光陶瓷进行X射线衍射检测，获得YAG:Ce-MgO荧光陶瓷的X射线衍射图谱，如图1所示，结果说明陶瓷中主要物相为YAG和MgO，并含有少量的Y2O3和MgAl2O4。说明在烧结过程中，YAG和MgO会发生反应，生成少量Y2O3和MgAl2O4。利用荧光分光光度计对上述制备的YAG:Ce-MgO荧光陶瓷和YAG:Ce粉体分别进行荧光光谱的检测，结果如图2所示，从图中可以看出，荧光陶瓷和粉体的激发和发射光谱基本重合，这说明添加MgO不会影响YAG:Ce的激发和发射。图3是YAG:Ce-MgO荧光陶瓷的扫描电镜背散射照片。通过照片可以清晰的看出，YAG相均匀地分散于MgO相之中。MgO作为连续相有助于提高荧光陶瓷的热导率。
[0045]实施例2[0046]S1：按照YAG:Ce荧光粉体占原料粉体(MgO粉体和YAG:Ce荧光粉体)总质量的30％，准确称量MgO粉体和YAG:Ce荧光粉体。其中YAG:Ce荧光粉体的颗粒尺寸为10-15μm，MgO的颗粒尺寸为50-100nm。[0047]S2：添加粉体总质量的0.5％的柠檬酸铵作为分散剂，以无水乙醇为分散介质，采
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用球磨方法将粉体混和均匀，经过100℃干燥和200目筛网过筛得到混合均匀的粉体。再将粉体在空气气氛下煅烧，煅烧温度为700℃，保温时间为1h。[0048]S3：将S2获得的原料粉体混合物填入不锈钢模具中单轴压制，压力为25MPa，获得素坯。
[0049]S4：将S3得到的素坯置于石墨模具中，采用热压烧结方法，按照50℃/min的升温速率升至1200℃，保温1h，热压压力为30MPa，从而得到YAG:Ce-MgO荧光陶瓷。[0050]S5：将S4得到的YAG:Ce-MgO荧光陶瓷采用热等静压烧结，按40℃/min的升温速率升至1250℃，保温0.5h，热等静压压力为100MPa，使其进一步致密化。[0051]S6：将烧结后的复相荧光陶瓷进行退火处理，按照8℃/min的升温速率升至1000℃，保温2h。再经过打磨抛光，得到YAG:Ce-MgO复相荧光陶瓷。
[0052]采用激光导热仪测得上述制得的30％YAG:Ce-MgO复相荧光陶瓷在室温下的热导率为25.2W/m/K。[0053]实施例3[0054]S1：按照YAG:Ce荧光粉体占原料粉体(MgO粉体和YAG:Ce荧光粉体)总质量的50％，准确称量MgO粉体和YAG:Ce荧光粉体。其中YAG:Ce荧光粉体的颗粒尺寸为10-15μm，MgO的颗粒尺寸为50-100nm。[0055]S2：添加粉体总质量的1％的聚丙烯酸铵作为分散剂，以无水乙醇为分散介质，采用球磨方法将粉体混和均匀，经过100℃干燥和200目筛网过筛得到混合均匀的粉体。再将粉体在空气气氛下煅烧，煅烧温度为700℃，保温时间为1h。[0056]S3：将S2获得的原料粉体混合物填入不锈钢模具中单轴压制，压力为35MPa，获得素坯。
[0057]S4：将S3得到的素坯置于石墨模具中，采用热压烧结方法，按照30℃/min的升温速率升至1400℃，保温1h，热压压力为40MPa，从而得到YAG:Ce-MgO荧光陶瓷。[0058]S5：将S4得到的YAG:Ce-MgO荧光陶瓷采用热等静压烧结，按照20℃/min的升温速率升至1450℃，保温1h，热等静压压力为120MPa，使其进一步致密化。[0059]S6：将烧结后的复相荧光陶瓷进行退火处理，按照6℃/min的升温速率升至1200℃，保温2h。再经过打磨抛光，得到YAG:Ce-MgO复相荧光陶瓷。
[0060]采用激光导热仪测得上述制得的50％YAG:Ce-MgO复相荧光陶瓷在室温下的热导率为20.1W/m/K。[0061]实施例4[0062]S1：按照YAG:Ce荧光粉体占原料粉体(MgO粉体和YAG:Ce荧光粉体)总质量的70％准确称量MgO粉体和YAG:Ce荧光粉体。其中YAG:Ce荧光粉体的颗粒尺寸为10-15μm，MgO的颗粒尺寸为50-100nm。[0063]S2：添加粉体总质量的0.5％的聚丙烯酸铵作为分散剂，以无水乙醇为分散介质，采用球磨方法将粉体混和均匀，经过100℃干燥和200目筛网过筛得到混合均匀的粉体。再将粉体在空气气氛下煅烧，煅烧温度为500℃，保温时间为1h。[0064]S3：将S2获得的原料粉体混合物填入不锈钢模具中单轴压制，压力为450MPa，获得素坯。
[0065]S4：将S3得到的素坯置于石墨模具中，采用热压烧结方法，按照20℃/min的升温速
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率升至1400℃，保温2h，热压压力为50MPa，从而得到YAG:Ce-MgO荧光陶瓷。[0066]S5：将S4得到的YAG:Ce-MgO荧光陶瓷采用热等静压烧结，按照20℃/min的升温速率升至1450℃，保温2h，热等静压压力为150MPa，使其进一步致密化。[0067]S6：将烧结后的复相荧光陶瓷进行退火处理，按照6℃/min的升温速率升至1200℃，保温3h。再经过打磨抛光，得到YAG:Ce-MgO复相荧光陶瓷。
[0068]采用激光导热仪测得上述制得的30％YAG:Ce-MgO复相荧光陶瓷在室温下的热导率为15.8W/m/K。[0069]对比例1[0070]制备YAG:Ce含量为质量百分比40％的YAG:Ce-Al2O3复相荧光陶瓷，按如下方法进行：[0071](1)按照YAG:Ce荧光粉体占原料粉体(Al2O3粉体和YAG:Ce荧光粉体)总质量的40％，准确称量Al2O3粉体和YAG:Ce荧光粉体。[0072](2)添加粉体总质量的1％的柠檬酸铵作为分散剂，以无水乙醇为分散介质，采用球磨方法将粉体混和均匀，经过100℃干燥和200目筛网过筛得到混合均匀的粉体。再将粉体在空气气氛下煅烧，煅烧温度为600℃，保温时间为1h。[0073](3)将(2)获得的原料粉体混合物填入不锈钢模具中单轴压制，压力为30MPa，获得素坯。[0074](4)将(3)得到的素坯置于石墨模具中，采用热压烧结方法，按40℃/min的升温速率升至1400℃，保温1h，热压压力为40MPa，从而得到YAG:Ce-Al2O3荧光陶瓷。[0075](5)将(4)得到的YAG:Ce-Al2O3荧光陶瓷采用热等静压烧结，按30℃/min的升温速率升至1450℃，保温1h，热等静压压力为100MPa，使其进一步致密化。[0076](6)将烧结后的复相荧光陶瓷进行退火处理，按照7℃/min的升温速率升至1100℃，保温3h，再经过打磨抛光，得到YAG:Ce-Al2O3复相荧光陶瓷。[0077]对比例2[0078]制备YAG:Ce含量为质量百分比为40％的YAG:Ce-YAG荧光陶瓷[0079](1)按照Y3Al5O12(YAG)的比例准确称量Al2O3粉体和Y2O3粉体，以无水乙醇为分散介质，采用球磨方法将粉体混和均匀，经过100℃干燥和200目筛网过筛，再经过900℃煅烧2h得到混合均匀的YAG前驱粉体。[0080](2)按照YAG:Ce荧光粉体占原料粉体(YAG前驱体粉体和YAG:Ce荧光粉体)总质量的40％，准确称量YAG:Ce荧光粉体和S1制备的YAG前驱体粉体。[0081](3)添加粉体总质量的1％的柠檬酸铵作为分散剂，以无水乙醇为分散介质，采用球磨方法将粉体混和均匀；经过100℃干燥和200目筛网过筛得到混合均匀的粉体。再将粉体在空气气氛下煅烧，煅烧温度为600℃，保温时间为1h。[0082](4)将(3)获得的原料粉体混合物填入不锈钢模具中单轴压制，压力为30MPa，获得素坯。[0083](5)将(4)得到的素坯置于石墨模具中，采用热压烧结方法，按40℃/min的升温速率升至1400℃，保温1h，热压压力为40MPa；得到YAG:Ce-YAG荧光陶瓷。[0084](6)将(5)得到的YAG:Ce-YAG荧光陶瓷采用热等静压烧结，按30℃/min的升温速率升至1450℃，保温1h，热等静压压力为100MPa，使其进一步致密化。
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(7)将烧结后的复相荧光陶瓷进行退火处理，按照7℃/min的升温速率升至1100
℃，保温3h。再经过打磨抛光，得到YAG:Ce-YAG复相荧光陶瓷。[0086]利用激光导热仪分别测试本发明以实施例1为代表、对比例1和对比例2中制备的荧光陶瓷的热导率，如图4所示。通过图中可以清晰的看出本发明制备的YAG:Ce-MgO荧光陶瓷的热导率要高于对比例中相同条件下制备的其他荧光陶瓷。因此，本发明所述荧光陶瓷具备良好的热性能，可以有效提高激光辐照下的散热能力，在大功率激光照明领域拥有绝佳的应用前景。
[0087]以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非是对本发明做其它形式的限制，任何本领域技术人员可以利用上述公开的技术内容加以变更或改型为等同变化的等效实施例。但是凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与改型，仍属于本发明技术方案的保护范围。
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图2
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图4
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