化学机械研磨抛光垫修整器及其制造方法[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：化学机械研磨抛光垫修整器及其制造方法专利类型：发明专利

发明人：周瑞麟,周至中,郑忠義,王信君,洪煜超申请号：CN2018100397.0申请日：20180116公开号：CN108857866A公开日：20181123

摘要：本发明提供一种化学机械研磨抛光垫修整器及其制造方法，化学机械研磨抛光垫修整器包含一底部基板：一中间层，设置在该底部基板上，该中间层包括一中空部以及一围绕该中空部的环状部，该环状部具有多个凸块；以及一钻石膜，设置在该中间层上，并对应该中间层的该凸块而形成多个研磨凸起；其中，该研磨凸起的一顶面具有一图案化结构，且该顶面具有一介于2至20之间的中心线平均粗糙度(Ra)。

申请人：中国砂轮企业股份有限公司

地址：中国台北市中正区延平南路10号

国籍：TW

代理机构：北京律诚同业知识产权代理有限公司

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