专利名称：防垢装置及水处理装置专利类型：实用新型专利发明人：周光辉,杨国安申请号：CN201721002547.0申请日：20170811公开号：CN207192933U公开日：20180406
摘要：本实用新型公开了防垢装置及水处理装置，涉及水处理领域。本实用新型提供一种防垢装置，包括管体、防垢机构和清理机构，管体内部具有流动通道，并且管体上开设有进液口和出液口，进液口和出液口分别与流动通道连通，防垢机构设置于流动通道内部，以使通过进液口流进流动通道的液体穿过防垢机构并由出液口流出，清理机构包括清洁水注入口，清洁水注入口设置于管体上，并且清洁水注入口与流动通道连通，清洁水注入口用于向流动通道内通入清洁水并清洁防垢机构。本实用新型还提供了一种水处理装置，其采用了上述的防垢装置。本实用新型提供的防垢装置及水处理装置能延长检修周期，降低检修成本。
申请人：四川恩曼环保设备制造有限公司
地址：610000 四川省成都市金堂县成都-阿坝工业集中发展区金乐路24号浩旺机电新材料产业园A14-7
国籍：CN
代理机构：北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：王术兰
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