一种高阶模选择抑制型垂直面发射激光器[实用新型专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种高阶模选择抑制型垂直面发射激光器专利类型：实用新型专利发明人：王岩,罗帅,季海铭申请号：CN201922047680.3申请日：20191125公开号：CN210517326U公开日：20200512

摘要：本实用新型涉及光子光电子器件设计、制作领域，尤其涉及一种高阶模选择抑制型垂直面发射激光器，其特征在于，高阶模选择抑制型垂直面发射激光器包括由下至上依次设置的N电极层、衬底、下布拉格反射层和发光单元圆台，发光单元圆台随机均匀分布于下布拉格反射层上构成随机单元阵列，相邻两发光单元圆台之间设有间隙；发光单元圆台包括由下至上依次设置的有源区、氧化层、上布拉格反射层、接触层、透明介质层，透明介质层具有不同刻蚀图案形成了高阶模选择抑制结构，高阶模选择抑制结构刻蚀图案的刻蚀深度满足四分之一波长相位相消条件。本实用新型实现高阶模抑制，保证光输出效率不受影响，稳定性强。

申请人：江苏华兴激光科技有限公司,武汉凹伟能源科技有限公司

地址：221300 江苏省徐州市邳州市邳州经济开发区辽河西路北侧、华山北路西侧

国籍：CN

代理机构：武汉今天智汇专利代理事务所(普通合伙)

代理人：邓寅杰

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