一种光学扩散膜及其制备方法[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种光学扩散膜及其制备方法专利类型：发明专利

发明人：杨柱,夏萍,刘振宇,邓康清,张宏元,常征申请号：CN201010592356.0申请日：20101209公开号：CN1025653A公开日：20120711

摘要：一种光学扩散膜，包括透明片状光学基材及在光学基材两面形成的光学扩散层和扩散防粘接层；光学扩散层是由重量份为10～30份粘合剂、10～30份扩散粒子、1～5份交联剂、0.5～3份分散剂、40～70份稀释剂混合制成的涂布液，涂布固定于光学基材表面，干燥固化成膜；扩散防粘接层是由含有重量份为30～60份粘合剂、0.5～5份扩散粒子、0.5～5份抗静电剂、1～10份交联剂、30～60份稀释剂混合制成的涂布液，涂布固定于光学基材表面，干燥固化成膜；粘合剂包括聚丙烯酸酯多元醇和聚酯多元醇；扩散粒子为高聚物树脂微珠；交联剂是脂肪类聚异氰酸酯；稀释剂是高挥发速度、中等挥发速度和低挥发速度的稀释剂。本发明涂膜硬度、透明性与耐擦划性的协调性良好。

申请人：湖北航天化学技术研究所

地址：441002 湖北省襄樊市156信箱春园路1号

国籍：CN

代理机构：襄阳中天信诚知识产权事务所

代理人：何静月

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