专利名称：一种高效抛光机专利类型：实用新型专利
发明人：王湘军,蒋更平,蒙志明,谢双廷申请号：CN202020620598.5申请日：20200422公开号：CN212071540U公开日：20201204
摘要：本实用新型公开了一种高效抛光机，涉及抛光设备领域，高效抛光机包括导轨、滑移连接在导轨上的滑块以及驱动滑块在导轨上往复滑动的驱动机构；所述滑块的两端均安装有支撑架，两个所述支撑架之间可拆卸连接有抛光布。本实用新型的优点是：结构简单，成本低，而且可以对金属工件上的孔进行快速抛光。
申请人：利科机电设备(深圳)有限公司
地址：518000 广东省深圳市宝安区石岩街道水田社区祝龙田路第四工业区18号光耀工业厂区-厂房D1.2楼
国籍：CN
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