一种硅片抛光垫清洗装置及清洗方法

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（19）中华人民共和国国家知识产权局

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN201911134376.0 （22）申请日 2019.11.19

（71）申请人天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司

地址 300384 天津市滨海新区华苑产业区(环外)海泰东路12号

（10）申请公布号 CN110842783A

（43）申请公布日 2020.02.28

（72）发明人祝斌;王彦君;裴坤羽;武卫;刘建伟;刘园;孙晨光;由佰玲;谢艳;杨春雪;刘秒;刘姣龙;常雪岩;吕莹;徐荣清

（74）专利代理机构天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙)

代理人栾志超

（51）Int.CI

权利要求说明书说明书幅图

（）发明名称

一种硅片抛光垫清洗装置及清洗方法

（57）摘要

本发明提供一种硅片抛光垫清洗装置，包

括用于储存清洗液的第一水槽和第二水槽、用于清洗上抛光垫和下抛光垫的刷子以及用于控制所述刷子移动的机械臂；所述刷子上端面与所述上抛光垫接触，所述刷子下端面与所述下抛光垫接触；所述第一水槽通过第一水管与所述第二水槽连通，所述第二水槽通过所述第二水管与所述刷子连通；设置在所述刷子上下端部的喷嘴均与所

述机械臂轴线成一定角度。本发明还提出一种硅片抛光垫清洗方法。本发明提出的清洗装置，可完全去除抛光垫表面附着的SiO

法律状态

法律状态公告日

2020-02-28 2020-02-28 2020-03-24

法律状态信息

公开公开

实质审查的生效

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公开公开

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说明书

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