流体处理结构、光刻设备和器件制造方法[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：流体处理结构、光刻设备和器件制造方法专利类型：发明专利

发明人：R·H·M·考蒂,M·瑞鹏,C·M·诺普斯申请号：CN2012102388.8申请日：20120710公开号：CN102880007A公开日：20130116

摘要：本发明公开了一种用于光刻设备的流体处理结构、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述流体处理结构在配置用于将浸没流体在流体处理结构之外的区域的空间的边界处具有：弯液面钉扎特征，用以抵抗浸没流体沿径向向外方向离开所述空间；线性阵列形式的多个气体供给开口，其至少部分地围绕弯液面钉扎特征并且在弯液面钉扎特征的径向向外位置处；和气体回收开口，其在线性阵列形式的所述多个气体供给开口的径向向外位置处。

申请人：ASML荷兰有限公司

地址：荷兰维德霍温

国籍：NL

代理机构：中科专利商标代理有限责任公司

代理人：吴敬莲

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