专利名称：保护膜形成用复合片专利类型：发明专利发明人：米山裕之,佐伯尚哉申请号：CN201480017872.7申请日：20140326公开号：CN105074878A公开日：20151118
摘要：本发明涉及一种保护膜形成用复合片(10)，其具备：在基材(11)上设置粘合剂层(12)而形成的粘合片(16)、保护膜形成用膜(13)和剥离膜(14)。将保护膜形成用膜(13)与剥离膜(14)之间的剥离力最大值设为α(mN/25mm)、将粘合片(16)与保护膜形成用膜(13)之间的剥离力最小值设为β(mN/25mm)、将粘合片(16)与保护膜形成用膜(13)之间的剥离力最大值设为γ(mN/25mm)时，α、β、γ具有以下(1)～(3)的关系。β≥70(1)；α/β≤0.50(2)；γ≤2000(3)。
申请人：琳得科株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京市柳沈律师事务所
代理人：王利波
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